Ni电铸多层Mo/Si反射镜

低温电铸高硬镜面

在不同温度下，Ni在多层Mo/Si薄膜上的电沉积遵循3D瞬时成核机制，通过控制沉积温度可细化晶粒并提高显微硬度，为基于Ni电铸的金属反射镜制造提供参考。

陈海翔 · 王昆 · Wang, Zhanshanb Shan

Materials Science in Semiconductor Processing 2024

参数信息

表观活化能

24.36 kJ/mol

表观活化能

17.69 kJ/mol

技术优势

成核可控

Ni在多层Mo/Si薄膜上的电沉积始终遵循3D瞬时成核机制，成核密度高且均匀，有利于获得致密镀层。

晶粒更细

升高沉积温度使多层Mo/Si上的Ni晶粒从粗大金字塔状转变为更细化的团簇模式，有助于提高表面质量。

应用场景

• X射线反射镜：提供高反射率的软X射线反射镜基底。
• EUV光刻：用于EUV光刻中的多层膜反射镜制造。
• 光学制造：Ni电铸工艺用于金属反射镜的精密制造。
• 空间望远镜：制造空间望远镜的轻量化高精度反射镜。