抛光轨迹优化策略

面形误差快速收敛

基于材料去除函数优化相邻轨迹点抛光后的局部峰谷值，使单次抛光后的面形误差最小化，兼顾收敛速度与精度。

Gong, Linqiang · 李龙响 · 张雷 · Nianju, Li · Bowen, Zhang · Dongyue, Zheng

Optics and Laser Technology 2026

参数信息

收敛速度提升

2 ×

收敛极限提升

2 ×

技术优势

收敛速度翻倍

通过优化抛光轨迹点位置，在单次抛光周期内最小化面形误差，从而加快收敛。

收敛极限提升

该轨迹策略不仅收敛更快，还能达到更高的最终面形精度。

无需额外硬件

仅通过调整抛光轨迹的间距、工具角速度和进给率来优化，可在现有设备上实现。

应用场景

• 精密加工：在现有抛光设备上直接提升面形收敛速度，无需改造硬件。
• 光学表面测量：借助去除函数优化轨迹，提高光学元件的面形精度。
• 光刻制造：可用于光刻物镜等精密光学镜面的抛光轨迹优化。
• 航空航天材料：适合加工航空航天用高精度光学元件。