条带畴FeCoHf膜

Yu, Jing; Xiaowen, Chen; Wang, Fangzhou; Roman, Adam; Bürgler, Daniel Emil; Pan, Lining; Zhang, Jing; Cui, Yuanzhi; Li, Qiuyue; Liu, Meihong; Xu, Jie; Shandong, Li; Parlak, Umut; Jianbo, Wang; Qingfang, Liu; Cinchetti, Mirko; Claus M., Schneider; Cao, Derang

条带畴FeCoHf膜

多共振峰可控

通过磁化强度调控磁畴壁体积，在同一薄膜中实现多达七个可调谐的磁畴共振模式。

Yu, Jing · Xiaowen, Chen · Wang, Fangzhou · Roman, Adam · Bürgler, Daniel Emil · 潘丽宁 · Zhang, Jing · Cui, Yuanzhi · Li, Qiuyue · Liu, Meihong · 徐洁 · Shandong, Li · Parlak, Umut · Jianbo, Wang · Qingfang, Liu · Cinchetti, Mirko · Claus M., Schneider · 曹德让

New Journal of Physics 2023

参数信息

共振峰数量: 7
临界厚度: 220-330 nm

技术优势

共振峰可控

共振峰数量由饱和磁化强度决定，可通过改变Hf含量或薄膜厚度调节。

单膜多峰

单个条带畴薄膜即可产生最多7个共振吸收峰，无需多层膜或复杂结构。

微波吸收强

多个共振峰有助于拓宽微波吸收带宽或实现多频段吸收。

应用场景

自旋电子器件：可提供多个磁畴共振模式，用于自旋波激发和检测。
微波器件：多峰吸收特性可用于宽带微波信号处理。
可调谐微波滤波器：共振峰数量可调，便于实现多频段滤波。