蓝光电探测超稳
经ATDA表面处理后,纳米片在溶液和薄膜中均保持优异光学性能,显著提升蓝光光电探测器的稳定性与探测率。
Wang, Hao · Zhentao, Du · Xue, Jiang · 曹盛 · Zou Bingsuo · 郑金桔 · 赵家龙
ACS Applied Materials & Interfaces 2024
ATDA处理后,纳米片溶液在80°C加热2小时后仍保持高光致发光性能。
经ATDA处理的纳米片薄膜在紫外照射4小时后不发生降解。
基于处理过的纳米片薄膜的光电探测器探测率达到9.36 × 10¹² Jones,可与已报道的最佳CsPbBr₃纳米片光电探测器相媲美。
组装器件在空气环境中存放超过30天仍保持高稳定性,显著优于未处理纳米片。