抗等离子体刻蚀Al₂O₃薄膜

耐刻蚀性提5倍

通过带狭缝挡板的原子层沉积在复杂3D物体表面制备高均匀性Al₂O₃薄膜，显著提高等离子体刻蚀耐受性。

韩杏 · Wang, Yixian · Yafeng, Wang · Pei, Chunlei · 王拓 · 巩金龙

National Science Review 2025

具体参数

氟化等离子体刻蚀速率

1.11 nm/min

非理想薄膜刻蚀速率

5.19 nm/min

薄膜不均匀性从

35.46 %

技术优势

吹扫时间从12.8 s缩短至9.7 s