抗总剂量辐照
相较于同类NAND闪存,该器件在总电离剂量辐照下展现出更优的抗辐射能力,适用于高辐射环境中的存储应用。
Xuesong, Zheng · Yuhang, Wang · Mo, Rigen · 刘超铭 · 王天琦 · 霍明学 · 肖立伊
Electronics (Switzerland) 2025
与同类NAND闪存对比,该28nm电荷俘获3D NAND在总电离剂量辐照下表现出更高的辐射耐受性,可减少高辐射环境下的数据错误。
原始误码率随辐照剂量变化,且受存储数据模式影响,为辐射环境下的数据保护策略提供依据。
总电离剂量会改变擦除和编程操作所需时间,需要在辐射环境中使用时重新标定时序参数。