蒙脱石/g-C₃N₄复合光催化剂

降解速率提升42%

通过插层复合同时扩展可见光吸收、促进电荷分离并抑制复合,显著提升光催化氧化效率。

Qi, Xu · Xu, Du · Qin, Zhou · Yang, Lian · Kuixiao, Li · Wei, Wang · Gang, Wang · Guisheng, Xu · 肖峰

Environmental Science: Nano 2025

参数信息

金霉素降解速率常数
0.0353 min⁻¹

技术优势

降解更快

1% Mt/g-C₃N₄在可见光下降解金霉素的速率常数达到0.0353 min⁻¹,比纯g-C₃N₄高约42%。

可见光可用

复合后光吸收扩展到可见光区域,使得在可见光下即可驱动降解。

电荷分离好

g-C₃N₄插入蒙脱石层间,促进了光生电子-空穴对的分离并抑制复合,从而提高光催化活性。

应用场景