抗剥落协同抑制扩散
通过Re/Hf与Re基扩散屏障协同作用,同时固定Ta和W并抑制Al扩散,实现NiAl涂层在1100°C下最低剥落、最少TCP相和最窄二次反应区。
Fan, L. J. · Li W. · Ao, Zhang · Yuanhang, Wang · Xianliang, Li · Sun R. · Pei, Zhiliang · 姜肃猛 · 宫骏 · 孙超
Surface and Coatings Technology 2026
协同抑制了Ta和W向外扩散,避免其在表面富集导致剥落。
通过抑制Al扩散,R-ReHf-NiAl中拓扑密堆相含量最低,二次反应区最窄。