ReHf共掺杂NiAl涂层

抗剥落协同抑制扩散

通过Re/Hf与Re基扩散屏障协同作用,同时固定Ta和W并抑制Al扩散,实现NiAl涂层在1100°C下最低剥落、最少TCP相和最窄二次反应区。

Fan, L. J. · Li W. · Ao, Zhang · Yuanhang, Wang · Xianliang, Li · Sun R. · Pei, Zhiliang · 姜肃猛 · 宫骏 · 孙超

Surface and Coatings Technology 2026

具体参数

Ta的稳定相
{'zh': '(Hf,Ta)5Al3, Ta3Re7, TaC', 'en': '(Hf,Ta)5Al3, Ta3Re7, TaC'}

技术优势

剥落最少

协同抑制了Ta和W向外扩散,避免其在表面富集导致剥落。

抑制有害相

通过抑制Al扩散,R-ReHf-NiAl中拓扑密堆相含量最低,二次反应区最窄。

应用场景