阵列式磁流变设备

去除率提升1.35倍

通过阵列化磁流变结构，在相同工艺参数下获得比传统电磁设备更高的材料去除效率，且去除函数稳定性优于5%。

Zhang, Wanli · 石峰 · 宋辞 · 铁贵鹏 · Wang, Bo · Qiao, Shuo · Sun, Guoyan · Shuangpeng, Guo

Optics and Laser Technology 2023

参数信息

体积去除率

2.03 μm³/min

去除函数稳定性

5 %

技术优势

效率提升1.35倍

体积去除率2.03 μm³/min，在相同工艺参数下是电磁设备的1.35倍

稳定性优于5%

去除函数长时间保持稳定，确保加工面形一致

二维去除验证

二维去除实验证实阵列设备能显著提高材料去除效率

应用场景

• 超精密抛光：阵列去除函数覆盖更大区域，提升超精密抛光效率
• 光学元件加工：应用于光学元件制造，直接提高材料去除率
• 大口径光学：适合大口径光学加工，通过阵列结构提升全局去除效率