Y₂O₃缓冲层

降低边缘开裂

通过调整涂层厚度和控制底层缺陷，显著降低了Y₂O₃薄膜的边缘开裂倾向，提高了表面平坦化效率。

Xin-Huan, Niu · Wang, Yi · Liu, Zhuangzhuang · Wang, Shanfei · Ji, Yaotang · Zhang, Xiaolong · Xiangyu, Liang · Suo, Wenhua · 索红莉

Ceramics International 2024

具体参数

平均表面粗糙度Rq

{'zh': '0.427', 'en': '0.427'}

涂层数

{'zh': '10', 'en': '10'}

平坦化效率提升

{'zh': '40', 'en': '40'} %

技术优势

边缘不易开裂

增加涂层厚度可降低整体应力，但需控制底层缺陷以免裂纹萌生；通过优化工艺实现缺陷控制。

涂层次数减四成

采用CSDP法仅需10个涂层即可达到Rq 0.427，相当于将平坦化效率提升40%。

长带均匀性好

在10米长的哈氏合金带上制备出均匀的Y₂O₃薄膜，平均粗糙度Rq 0.427。

应用场景

• 二代高温超导带材：作为缓冲层，降低基底粗糙度，保证超导层织构。
• 表面平坦化：用Y₂O₃前驱体溶液涂覆，将哈氏合金表面粗糙度降至Rq 0.427。
• 离子束辅助沉积：为IBAD-MgO提供光滑基底，使其双轴织构得以形成。
• 涂层导体：Y₂O₃平坦化层是IBAD路线涂层导体的关键起始层。