检测限低四个数量级
一种可在四英寸晶片上低成本、高均匀性制备的三维纳米天线结构,用于表面增强红外吸收,将单层分子的检测限降至nM级别。
Wu, Shaoxiong · Cheng, Chen · Xihang, Wu · Tian, Feng · Yungui, Ma · Yang, Xu · Hu, Huan
Sensors and Actuators, B: Chemical 2023
增强因子:2.1 × 10³(单层十八烷硫醇)
检测限比平面金基底低四个数量级
制备方法:晶片级纳米球光刻+反应离子刻蚀+金属沉积,低成本高均匀性