缺陷工程Co₃O₄析氧催化剂

钴缺陷驱动高活性桥位

利用钴缺陷诱导短Co-Co键桥位,重构后析氧过电位仅为262 mV,优于氧缺陷和无缺陷体系。

张蓉蓉 · 潘伦 · Beibei, Guo · 黄振峰 · Chen, Zhongxin · Li, Wang · 张香文 · Zhiying, Guo · Xu, Wei · Kian Ping, Loh · 邹吉军

Journal of the American Chemical Society 2023

具体参数

析氧过电位
{'zh': '262', 'en': '262'} mV
析氧过电位
{'zh': '300', 'en': '300'} mV
Co-Co距离
{'zh': '3.38', 'en': '3.38'} Å

技术优势

过电位大幅降低

重构后具有Co缺陷的Co₃O₄在10 mA cm⁻²下过电位仅262 mV,比无缺陷的320 mV低58 mV。

可调控重构速率

Co缺陷减弱*OH吸附但增强去质子化,从而降低重构速率,避免过度结构坍塌。

活性桥位可控生成

无论Co或O缺陷,均能在重构后产生高活性的桥式Co位点,而Co缺陷还可压缩晶格,缩短Co-Co键。

应用场景