碳包覆1T/2H MoS₂纳米片

万次循环容量反升

一种温和碳包覆工艺保留了高导电1T相,解决了二硫化钼在电化学循环中的结构不稳定性问题。

Yifei, Zhou · Le, Kai · 77288662 · Hui-Jie, Zhang · 徐彦宾 · 徐书生

Journal of Energy Storage 2025

具体参数

面积比电容(电极)
{'zh': '443', 'en': '443'} mF cm<sup>−2</sup>
容量保持率(电极)
{'zh': '109', 'en': '109'} %
面积比电容(对称器件)
{'zh': '108.3', 'en': '108.3'} mF cm<sup>−2</sup>
循环稳定性(对称器件)
{'zh': '85', 'en': '85'} %
弯折稳定性
{'zh': '113', 'en': '113'} %

技术优势

容量不降反升

碳包覆稳定了纳米片结构,循环中发生表面活化或离子可及性增加,10000次后电容保持率达109%。

弯不坏

柔性器件在5000次弯折后电容保持率高达113%,远超100%,表明反复弯折可能促进离子传输而非破坏结构。

高导电相留得住

温和碳包覆避免1T相向2H相转变,保留了高导电性和高电容特性。

应用场景