电荷分离效率超90%
在BiVO₄:Mo晶面间引入电子转移层,将内建电场强度提升超10倍,使电荷分离效率达到自然光合作用水平。
王硕 · Chenyang, Li · Qi, Yu · Zhang, Jiaming · 王宁宁 · 刘梦 · Zhang, Boyang · 张洪波 · 马贵军 · Yang, Jingxiu · Chen, Shanshan · 章福祥
Nature Communications 2025
在420 nm下电荷分离效率超过90%,达到自然光合作用水平,大幅提高光催化活性。
电子转移层不仅促进电子向表面转移,还将晶面间结的内建电场强度提升超过10倍。