组合刻蚀熔石英

高能激光下更抗打

与单一后处理相比，该刻蚀工艺在去除缺陷的同时显著抑制了二次缺陷的再生，使元件在激光辐照下更加稳定。

Yuan, Zhigang · Deng, Wenhui · Wei, Qiancai · 李波 · Zhou, Lian · 张庆华 · 王健 · 祖小 · Lei, Xiangyang · Bo, Zhong

Results in Physics 2024

参数信息

零概率损伤阈值提升幅度

32.41 %

100%概率损伤阈值提升幅度

57.46 %

表面粗糙度均方根

0.666 nm

杂质元素含量降低幅度

1 order of magnitude

技术优势

损伤阈值大幅提升

组合刻蚀去除了表面碎裂缺陷，使零概率损伤阈值提升32.41%，100%概率损伤阈值提升57.46%。

表面质量优良

组合刻蚀后表面粗糙度均方根仅为0.666 nm，达到相对良好的表面质量。

杂质与结构缺陷同步减少

刻蚀后大部分杂质元素含量降低约一个数量级，结构缺陷含量也显著减少，从而提高抗激光损伤能力。

应用场景

• 高功率激光装置：提升光学元件抗损伤能力，保障高功率激光装置高输出与稳定运行。
• 激光防护与损伤：通过去除缺陷和抑制再生，显著提高熔石英元件抗激光损伤性能。
• 超短脉冲激光系统：在高通量激光照射下表现优异，适用于超短脉冲系统对抗损伤的高要求。