低过电位高稳定
一种磷钴双掺杂的铜镍合金电催化剂,同时实现了低过电位和超高电化学稳定性。
Wang J. · Wang, Xuanbing · Wei, Jinlong · 王景 · 徐瑞东 · Yang, Linjing
Small 2024
仅需56 mV即可达到10 mA cm⁻²,优于多数已报道的过渡金属基材料。
在10 mA cm⁻²下可稳定工作超过360小时。
P掺杂同时提高电导率和耐腐蚀性,Co掺杂调控亚纳米片形貌暴露更多活性位点。