P/Co双掺杂CuNi合金

低过电位高稳定

一种磷钴双掺杂的铜镍合金电催化剂,同时实现了低过电位和超高电化学稳定性。

Wang J. · Wang, Xuanbing · Wei, Jinlong · 王景 · 徐瑞东 · Yang, Linjing

Small 2024

具体参数

过电位
{'zh': '56', 'en': '56'} mV
稳定性
{'zh': '360', 'en': '360'} h

技术优势

过电位低

仅需56 mV即可达到10 mA cm⁻²,优于多数已报道的过渡金属基材料。

稳定性好

在10 mA cm⁻²下可稳定工作超过360小时。

双掺杂增效

P掺杂同时提高电导率和耐腐蚀性,Co掺杂调控亚纳米片形貌暴露更多活性位点。

应用场景