钙钛矿单晶微盘激光阵列

窄线宽低阈值

用飞秒激光在钙钛矿单晶薄膜上直接图案化微盘阵列，线宽和表面粗糙度远优于多晶薄膜方案。

Mao, Wangqi · Li, Haonan · Tang, Bing · Zhang, Chi · Liang, Liu · 王沛 · 董红星 · 张龙

International Journal of Extreme Manufacturing 2023

具体参数

激光线宽

{'zh': '0.09', 'en': '0.09'} nm

激光阈值

{'zh': '5.1', 'en': '5.1'} μJ/cm²

最小加工线宽

{'zh': '300', 'en': '300'} nm

技术优势

线宽更窄

单晶薄膜的高质量微腔把激光线宽压到 0.09 nm，比多晶薄膜方案的线宽窄得多。

图案可清洗

加工残留的表面杂质能直接洗掉，避免额外的光学损耗，器件性能不受污染影响。

精度可达 300 nm

飞秒激光多轮低功率直写，最小加工线宽约 300 nm，能高精度、化学洁净地制作微盘阵列。

应用场景

• 激光显示：单模微盘激光器做像素，实现高功率高色纯度显示。
• 微纳激光器：提供可重复制造的钙钛矿微激光器阵列。
• 光通信：窄线宽单模激光器适合光通信光源。
• 光子集成：单晶薄膜微盘阵列可直接用于片上集成。