超薄LiF钝化层

光致缺陷增速降 90%

用超薄氟化锂层钝化钙钛矿薄膜表面，在光照下强效抑制缺陷生成，显著延长器件稳定性。

Yuanxin, Zhong · Jiang, Zezhuan · Gong, Yanli · Haimao, Zhu · Zhang, Yixuan · 宋群梁 · 高椿明

Journal of Physical Chemistry Letters 2026

参数信息

表面缺陷密度（无LiF，300 K）
4.8 × 10⁹ → 2.53 × 10¹⁰ cm⁻²
表面缺陷密度（无LiF，250 K）
8.95 × 10⁹ → 5.0 × 10⁹ cm⁻²
PLID 时间常数（无LiF）
57 s
PLID 时间常数（有LiF）
384 s
表面缺陷密度（有LiF）
2.4 × 10⁹ cm⁻²

技术优势

光照缺陷增速降 90%

超薄 LiF 层通过抑制表面缺陷生成，将光照下的缺陷密度增长从约 2.0×10¹⁰ cm⁻² 降低到仅 2.4×10⁹ cm⁻²。

缺陷可在暗态恢复

光照诱导的缺陷响应在暗态下大部分可逆，意味着 LiF 表面策略与器件自恢复机制可以协同工作，延长工作寿命。

低温抑制缺陷演化

温度从 300 K 降至 250 K 时，缺陷密度由增长转为下降，为通过热管理缓解光致衰退提供了直接依据。

应用场景