原子级表面与高去除速率兼得
用光催化作用的核壳磨料替代有毒抛光液，在熔融石英上同时实现原子级光滑表面和高材料去除速率。
Shi, Chunjing · Yuanhang, Fan · 张振宇 · 邓星桥 · 余家欣 · 周红秀 · 孟凡宁 · Feng, Junyuan
Applied Surface Science 2024
在50×50 μm²扫描区域实现Sa 0.181 nm，满足光学元件对原子级表面的严苛要求。
高去除速率打破了原子级抛光效率低的瓶颈，大幅缩短加工时间。
模拟太阳光照射下，核壳磨料产生OH–自由基，与表面Si原子键合形成Si-OH-Si，增强化学机械协同作用。
新浆料由碳酸钠、过氧化氢、羧甲基纤维素钠和去离子水组成，替代传统有毒腐蚀性浆料。