电场辅助压印倾斜纳米结构

无残余层高保真

通过电场驱动毛细填充避免压力变形，实现对压力敏感倾斜纳米结构的无残余层、高保真复制，解决传统压印中低压变形与高压除残层的矛盾。

Yu, Fan · Wang, Chunhui · 孙昊 · Li, Shuai · 陈晓明 · 田洪淼 · 李祥明 · Chen, Xiaoliang · 邵金友

Microsystems and Nanoengineering 2026

技术优势

无残余层

高保真