单斜BiVO₄薄膜

产H₂O₂快1.8倍

特定晶面取向的BiVO₄薄膜与SrTiO₃构建界面，能带偏移提升光催化产过氧化氢能力。

Peng, Yaru · Zhai, Pengwei · Shi, Yuxin · 江浩湘 · 李国强

Applied Surface Science 2023

参数信息

H₂O₂生成速率

5.3 × 10⁻² µmol h⁻¹

H₂O₂生成速率

3.8 × 10⁻¹ µmol h⁻¹

导带价带位置差

0.23 eV

技术优势

产H₂O₂快1.8倍

暴露(1 0 0)面的薄膜在440 nm单色光下H₂O₂平均生成速率为5.3 × 10⁻² µmol h⁻¹，是(0 1 0)面的1.8倍。

能带位置更优

(1 0 0)面的导带和价带位置比(0 1 0)面高0.23 eV，有利于光生载流子分离和表面反应。

应用场景

• 光催化产过氧化氢：直接作为光电极用于H₂O₂生成反应。
• 光催化材料：提供可控晶面取向的BiVO₄/SrTiO₃薄膜模型。
• 光电化学：用于研究晶面取向对能带及光电化学性能的影响。