CsPbBr₃量子点微图案

免显影一步成型

一种无需显影的直接原位光刻策略，在水浸6个月后仍保持完好。

Wanting, Li · Manchun, Wu · Haini, Chen · Zhang, Peng · 蔡志雄 · 蔡顺有 · 李飞明

Small Structures 2024

具体参数

水浸稳定性

{'zh': '6', 'en': '6'} months

技术优势

免显影

单步原位光刻直接产生荧光微图案，无需溶剂显影的繁复步骤。

浸水6个月不坏

微图案在水中浸泡 6 个月后仍保持完好，体现了良好的环境稳定性。

应用场景

• 光信息存储：利用超高存储容量实现高密度光信息编码。
• 防伪标签：浸水6个月不坏，可做防伪标签长期标识。
• 量子点图案化：免显影单步光刻，实现钙钛矿量子点的原位图案化。
• 非传统光刻：抑制溶剂损伤，为离子型量子点提供光刻新途径。