深紫外AlN超光栅

80°偏转效率75%

首个以强化学习设计的高效深紫外超光栅，实测效率达75%，为紧凑型DUV光学元件提供新途径。

Po-Yen, Yu · Yu Jie, Wang · Tsai, Sunglin · Shuai, Honghan · Tseng, Minglun

Applied Surface Science Advances 2025

参数信息

偏转角

80 °

效率

75 %

技术优势

设计更快

强化学习与严格耦合波分析相结合，比传统正向设计方法更快找到高效结构。

效率创纪录

80°大偏转角下实测效率75%，为该光谱范围内的最先进性能。

应用场景

• DUV光谱系统：提供紧凑高效的分光或偏转元件，替代传统笨重光学组件。
• 纳米光刻：用于DUV光束整形与投影，提升光刻系统分辨率与集成度。
• AI辅助光子设计：展示强化学习在复杂光子器件优化中的可行性与效率提升。
• 光子芯片：提供片上DUV波前控制元件，助力集成光子回路。