飞秒级自旋注入
激光脉冲在飞秒时间尺度内将自旋注入WSe₂，自旋操控速度远超传统电学方法。
过伊吕 · Zhang, Yehui · Zhou, Zhaobo · He, Junjie · 袁士俊 · Heine, Thomas · 王金兰
ACS Nano 2024
激光脉冲在飞秒时间尺度内完成自旋注入，远快于传统电学方法。
通过type-II能带排列和自旋劈裂，无需施加磁场即可在非磁WSe₂中产生净自旋。
系统完全由半导体材料构成，与现有半导体工艺兼容。