叠层效率逾30%
用工业级氧化剂再结晶溅射NiOx薄膜,增强SAM锚定与空穴提取,同时Na+扩散抑制相分离,提升器件稳定性。
Jin, Yongbin · Feng, Huiping · Yingji, Li · Hong, Zhang · Xuelin, Chen · Yawen, Zhong · Qinghua, Zeng · Jiarong, Huang · 翁雅恋 · Yang, Jinxin · 田成波 · Zhang, Jinyan · 谢立强 · Wei Z.
Advanced Energy Materials 2024
NaIO4处理促进NiOx薄膜再结晶,减少结构缺陷,提升电导率,有利于空穴传输。
Ni3+/Ni2+比例升高和 NiOOH 含量增加增强了 SAM 在 NiOx 表面的锚定能力,改善空穴提取。
NaIO4处理促进Na+在钙钛矿层内扩散并抑制相分离,封装叠层器件在300 h MPP追踪后保持95%初始效率。
采用溅射和工业级氧化剂 NaIO4,均可大规模应用,无需手套箱或特殊设备。