冷约束电沉积亚微米打印

最小线宽290 nm

一种利用局部冷却抑制离子扩散的亚微米金属微结构电沉积增材制造技术。

Shen, Chunjian · Yu, Mo · 朱荻

Virtual and Physical Prototyping 2024

参数信息

最小特征尺寸

290 nm

技术优势

能做更小

移液管开口在亚微米级，电解液被冷却到 5°C 限制扩散，沉积区域大幅缩小，最小特征尺寸达 290 nm。

表面更匀

低温约束使得沉积高度均匀，表面光滑，避免了微米尺度电沉积常见的粗糙与不均。

强度更高

打印的微结构具有高强度，可满足微机电系统等对机械性能的要求。

应用场景

• 微纳金属结构：直接打印亚微米金属结构，无需额外刻蚀或模板。
• 光学超材料：制造亚微米金属图案，用于调控光响应。
• 微流控器件：制造微流道内部金属电极或加热元件。
• 微纳增材制造：为现有微纳增材制造工具链补充高分辨金属打印能力。