激光抛光Yb:YAG晶体

表面粗糙度降低

193 nm准分子激光烧蚀可有效降低研磨Yb:YAG晶体的表面粗糙度，且材料去除以光化学机制为主。

邵景珍 · 梁勖 · Lin, Ying · Qihui, Shen · Jiacheng, Ren · 张庆礼

Journal of the Optical Society of America B: Optical Physics 2023

参数信息

表面粗糙度降

约0.2 nm

技术优势

光化学烧蚀主导去除

表面轮廓分析表明，光化学烧蚀是材料去除的主要机制，有助于实现更清洁的加工。

应用场景

• 超快激光加工：利用193 nm激光非接触抛光Yb:YAG晶体，替代传统机械研磨。
• 光学晶体抛光：降低Yb:YAG晶体表面粗糙度至约0.2 nm，满足器件应用。
• 精密光学制造：烧蚀抛光Yb:YAG晶体，提升光学元件表面质量。
• 激光微加工：利用准分子激光对Yb:YAG晶体进行微加工，实现低粗糙度表面。