氩等离子体处理WO₃氢传感器

重复性显著增强

通过等离子体刻蚀调控氧空位,解决了传统金属氧化物半导体气体传感器重复性不足的核心难题。

Yang, Zhiyong · Jianbang, Chen · Xingwang, Long · Liu, Lei · Yanyu, Jiang · Ren, Zhicong · Junfeng, Peng · 游道通 · 郭团

Journal of Lightwave Technology 2024

具体参数

检测限
{'zh': '8', 'en': '8'} ppm

技术优势

重复性大幅提升

通过氩等离子体刻蚀精确调控WO₃中的氧空位浓度,使传感器在数十次连续氢气测量中信号高度稳定,解决了传统金属氧化物传感器重复性差的通病。

信噪比大幅改善

氧空位浓度的优化使得传感材料对目标气体的响应更灵敏且基底噪声更低,从而获得了更清晰、更可靠的氢气检测信号。

检测限低至8 ppm

传感器的检测下限达到8 ppm,能满足早期氢泄漏预警和痕量氢气检测的严苛要求,在安全监测领域具有重要价值。

应用场景