CMP蓝宝石衬底

促进大面积单层MoS₂生长

一种绿色高效化学机械抛光方法制备的衬底，可提升二维MoS₂的尺寸和单层均匀性，并改善其晶体质量与光学性能。

柯聪明 · Yiao, Pang · Shoulin, Liu · Yongping, Wei · Yaping, Wu · Zhiqiang, Li · Luo, Qiufa · 陆静

Surfaces and Interfaces 2024

具体参数

最大材料去除率

{'zh': '4.27', 'en': ''} µm/h

Ra nm AFM

{'zh': '5', 'en': '5'} μm²