铜基吡啶络合物催化剂

选择性增C2+

通过吡啶配位增加CO2吸附位点并抑制析氢，在流动池中实现C2+产物法拉第效率55%。

Yue, Zou · Jun, Zhang · 闫永胜 · Pengwei, Huo · 朱帜

Catalysis Science and Technology 2025

具体参数

C2+产物法拉第效率

{'zh': '55', 'en': '55'} %

技术优势

选择性提升

在流动池中−1.6 V vs. RHE下，C2+产物法拉第效率达到55%。

吸附位点增加

XPS显示新谱带，证明吡啶基和苯基提供了额外CO2吸附位点。

应用场景

• CO2电还原：直接用于流动池中CO2电还原，提高C2+产物收率。
• 铜基催化剂：作为改性铜催化剂，替代传统铜电极以提高选择性。
• 单原子催化：提供孤立铜位点配位环境，增强CO2吸附能力。
• 电化学合成：用于电化学合成C2+化学品，抑制副产氢。