低铌Al-Ti-Nb-B晶粒细化剂

抗硅中毒且长效

通过Nb在TiB2表面的吸附，这种细化剂在抗硅中毒和晶粒生长限制之间取得平衡，为Al-Si合金提供稳定细化。

Hao, Yi · 程颖 · 张花蕊 · 张虎

Applied Surface Science 2025

参数信息

晶粒尺寸
196.41 μm
120 min后晶粒尺寸
213.64 μm
TiB2表面Nb含量
2.01 at.%
抗Si中毒所需最低Nb含量（阈值）
1.92 at.%

技术优势

抗Si中毒

TiB2表面吸附的Nb含量达到2.01 at.%，超过1.92 at.%的阈值，使TiB2仍能作为α-Al形核核心。

长效抗衰退

Al-7Si中静置120 min后晶粒尺寸仅从196.41 μm增至213.64 μm，衰退幅度远低于低Nb对照组。

细化效果优于低Nb细化剂

对比Al-4.5Ti-0.5Nb-1B和Al-4.9Ti-0.1Nb-1B的252.64 μm和303.31 μm，Al-4Ti-1Nb-1B的196.41 μm显著更细。

应用场景