晶面工程MOF电化学发光体

选择性暴露晶面

揭示了暴露晶面对电化学发光性能的调控规律，为设计高亮稳定ECL纳米发射体提供指导。

Zhenghan, Zhang · Cai, Xu · Liu, Huipu · Dong, Pengfei · Xu, Xiang · 李剑 · 吴丽娜 · Lu, Li-Fan · 雷建平

Small 2025

参数信息

ECL强度提升倍数（(110) vs (001)）
19.5 fold
ECL强度提升倍数（(100) vs (001)）
2.4 fold
ECL自放大倍数（(110)晶面）
1088 fold

技术优势

亮度提升19.5倍

通过选择性暴露(110)晶面，ECL强度较(001)晶面提升19.5倍，直接提高检测灵敏度。

自放大1088倍

(110)晶面因稳定自由基的积累产生1088倍ECL自放大，无需额外放大策略即可输出高信号。

核心反应物更易活化

DFT计算表明过硫酸根与(110)面Zn(II)侧向配位，削弱O─O键并促进其断裂，生成更多SO4•-自由基，加速界面电荷转移。

应用场景