室温相稳定,空穴浓度提升百倍
高浓度铟掺杂同时稳定亚稳菱面体相并大幅提高载流子浓度,使p型AgBiSe₂在低温区获得实用化热点性能。
Li, Shan · Haoming, Liu · Longzhi, Wu · Wang, Qi · Shuoran, Song · Xiu-Qun, Wu · Xinyao, Qin · Zeng, Xianglong · Jia-Yan, Sun · 叶信立 · 张俊雄 · 毛俊 · Qian, Zhang
Journal of Alloys and Compounds 2025
高浓度铟掺杂在铋位引入受主态,使室温空穴浓度从2.1×10¹⁷ cm⁻³提高到2.3×10¹⁹ cm⁻³,增幅超过两个数量级。
铟掺杂使亚稳菱面体相在室温下保持稳定,避免相变导致的性能退化,为器件长期工作提供支撑。
得益于载流子浓度提高,电导率从17.8 S m⁻¹升至3000 S m⁻¹,近170倍的增长使材料具备实用化的电流输运能力。
峰值zT在470 K达到0.52,298–470 K范围平均zT为0.38,在低温区处于p型AgBiSe₂基材料的前列。