原位修复介质
通过高渗透修复介质二次烧结在边缘孔隙内生长新晶粒,消除电场畸变并提升能量容量。
Meng, Pengfei · 73044673 · Wei, Li · Yue, Yin · 73044674 · Chengxin, Li · Lei, Wang · 73044677 · 吴隆文
Journal of the European Ceramic Society 2024
通过二次烧结在边缘孔隙内生长新晶粒,使2 ms方波下的能量容量从600 A提升至1000 A。
开发的高渗透修复介质可深入边缘开孔,在二次烧结中实现原位晶粒生长,从而消除孔隙缺陷。
修复过程中同时解决了修复介质与基体之间热膨胀系数不匹配的问题,避免了界面应力。