缺陷显著降低
通过物理控制成核和壳层钝化降低晶格与表面缺陷,实现高效发光
Huang, Qiaocan · Yang, Zunxian · Ye, Yuliang · Meng, Zongyi · Zeng, Zhiwei · Hong, Hongyi · Ye, Songwei · Cheng, Zhiming · Lan, Qianting · Ye, Bingqing · Zhou, Yuanqing · Shen, Zihong · Wu, Wenbo · Wang, Jiaxiang · Ye, Chen · Hui, Zhang · 郭太良 · 李福山 · Yongyi, Chen · 翁臻臻
ACS Applied Nano Materials 2024
通过物理成核控制和壳层钝化,晶格与表面缺陷被有效抑制,荧光寿命测试证实缺陷态大幅减少。
仅通过稀释热注入体系,无需改变前驱体比例,即实现发射从595 nm蓝移至533 nm,连续覆盖橙光到绿光。
引入3 nm LiF保护层防止配体脱落,QLED最大EQE达8.06%。