NiOx离子存储薄膜

光学调制70.3%

通过反应磁控溅射放电功率调控,在柔性基底上获得高性能电致变色器件所需的低应力NiOx薄膜。

Mingtao, Chen · Zihang, Huang · Zhang, Shiyu · Xiaomin, Xie · Zhu H. · 万梅秀 · Shen Kai · Mai Yaohua

Journal of Alloys and Compounds 2025

具体参数

处光学调制
{'zh': '70.3', 'en': ''} %
着色效率高
{'zh': '135', 'en': ''} mC/cm2

技术优势

响应速度快(摘要称relatively rapid)