缺陷减少·稳定性提升
通过界面修饰剂改善能级对准和界面缺陷，降低非辐射复合，提升钙钛矿电池的效率和长期稳定性。
Yumei, Chen · Yuncheng, Deng · Chaoting, Wang · Maoyun, Gao · Xiangqian, Ao · Dan, Zhu · 陈丽佳 · Zhang, Qiaoming
Applied Surface Science 2026
VEImBr修饰使能级对准改善，界面电荷提取加快，非辐射复合减少。
界面修饰后迟滞指数从3.29%降至1.77%，表明离子迁移和电荷积累得到有效抑制。
未封装器件在空气中400小时保持92.31%效率，在N₂中800小时保持94.38%效率。