DUV可量产
采用深紫外光刻实现高Q值Fano共振，摆脱了常规EBL的产能限制，为大规模光子集成提供了可重复制造的谐振单元。
Sun, Fujun · Li, Zhihua · Tang, Bo · 李彬 · 张鹏 · 刘若男 · Gang, Yang · Huang, Kai · Han, Zhe · 罗军 · 王文武 · 杨妍
Nanophotonics 2023
器件采用深紫外光刻工艺制造，摆脱了电子束光刻的低通量限制，能够批量制备高Q谐振单元。
30个器件的平均Q因子约1.58 × 10⁴，表明该结构具有稳定且可重复的高品质因数。
器件展现了热光双稳态和热调谐特性，可用于实现光开关和可调谐谐振器。