纳秒激光抛光工艺

该技术通过多模式纳秒激光抛光在极浅熔化深度下实现高质量表面平滑，并揭示了不同于传统回火软化的残余奥氏体富集与马氏体回火协同软化的新机制。

Liu, Erju · Zhang, Donghe · La, Han · Zhikun, Liu · 单德彬 · 郭斌 · 徐杰

International Journal of Machine Tools and Manufacture 2025

参数信息

表面粗糙度

0.23 μm

熔化深度

2 μm

残余奥氏体含量

90 %

技术优势

熔化深度极小

在熔化深度小于 2 μm 的情况下实现表面平滑，减少热影响，保持基体性能。

表面粗糙度低

表面粗糙度降至 Sa=0.23 μm，达到高质量表面光洁度。

抑制表面软化

采用毫米级平顶光束的多模式纳秒激光抛光，缓解了传统连续激光抛光引起的表面软化。

应用场景

• 精密模具制造：在极浅熔化深度下实现镜面级抛光，避免模具尺寸精度损失。
• 金属表面精加工：替代传统机械抛光，减少表面损伤并提高表面质量。
• 高硬度钢构件加工：抛光高硬度钢表面而不引起显著软化，保持其硬度。
• 微纳制造表面处理：提供低热效应的表面处理，适用于微纳制造中的精密表面加工。