免RIE增透
采用优化的湿法刻蚀工艺制备，通过适度横向刻蚀替代反应离子刻蚀，在保证聚焦性能的同时简化制造流程并降低成本。
Jinming, Ti · 李俊红 · Yuhan, Ren · Fan, Qingqing · Wang, Chenghao
ECS Journal of Solid State Science and Technology 2025
适度横向刻蚀即可延长工作距离，无需反应离子刻蚀，减少制造工序和设备投入。
省去RIE步骤后，制造复杂度和成本同时下降。
该工艺在简化流程的同时还增加了换能器的辐射功率。