Cu掺杂高熵硒化铅

全温区热电优值领先

Cu原子完全分散在间隙位,同时优化载流子浓度和降低晶格热导率,使材料在整个温区保持高ZT,不同于以往仅在窄窗口表现优异的高熵材料。

Ziling, Yuan · Mengyue, Wu · 73759335 · Liu, Pengfei · 葛振华 · Ge, Bangzhi · Zhu, Menghua · Yadong, Xu · 介万奇 · Dongyao, Zhao · 杨兵超 · 张永胜 · Ming, Liu · 朱敏 · Li, Chao · Yu, Yuan · Zhou, Chongjian

Energy and Environmental Sciences 2024

具体参数

最大功率因子
21 μW cm−1 K−2
平均功率因子
19 μW cm−1 K−2
最低晶格热导率
0.2 W m−1 K−1
热电优值ZT(室温)
0.6
热电优值ZT(723 K)
1.7

技术优势

全温区高ZT

Cu原子完全溶解,动态优化载流子浓度,功率因子在300–723 K保持~19 μW cm⁻¹ K⁻²,ZT单调增加到1.7。

晶格热导率触底

间隙Cu原子显著缩短声子平均自由程,将723 K晶格热导率压到~0.2 W m⁻¹ K⁻¹,接近理论最小值。

无缺陷微观结构

Sn掺杂使Cu原子均匀分散在间隙位,去除了低熵材料中常见的位错和纳米析出物,让晶格有序、电导率不损失。

应用场景