多壁碳纳米管/氧化石墨烯/金刚石协同改性聚氨酯抛光垫

材料去除率提升37.8%

通过多壁碳纳米管和氧化石墨烯的协同调控，该抛光垫在显著提高材料去除率的同时，大幅降低表面粗糙度和磨损率，为半导体精密抛光提供了一种性能均衡提升的解决方案。

Chuang, Zhang · 程军 · Jingyu, Li · Yongbin, Zhang · Xianjun, Zou · Yutong, Mei

Journal of Manufacturing Processes 2026

参数信息

材料去除率提升幅度

37.80 %

表面粗糙度降低幅度

49.30 %

磨损率降低幅度

67.39 %

技术优势

三项指标同时改善

通过调控GO与MWCNT的配比，可在提升材料去除率的同时降低表面粗糙度和磨损率，避免了传统改性中常见的性能此消彼长。

耐磨性大幅提升

纳米填料的协同增强与润滑效应使磨损率降低67.39%，抛光垫寿命显著延长，减少了更换频率。

配比明确可复现

论文给出了最佳配比：总填料0.4wt%，GO:MWCNT质量比2:1，据此可直接制备出性能均衡的抛光垫。

应用场景

• 半导体晶圆抛光：用于晶圆背面减薄和表面平坦化，在保证低粗糙度的同时提高去除率。
• 精密表面加工：对精密金属或陶瓷零件进行最终表面精整，获得纳米级粗糙度。
• 精密仪器制造：抛光精密仪器中的关键配合面，如导轨、轴承等，确保高尺寸精度。
• 陶瓷与复合材料加工：对硬脆陶瓷或复合材料工件进行高效抛光，减少表面损伤。
• 机械抛光工艺：作为机械抛光工艺中的耗材，替代传统抛光垫以提升整体工艺效率。