阳离子光刻胶

高速高分辨

一种适用于双光子光刻的高灵敏度阳离子光刻胶，通过双分子光敏剂-光酸产生剂对和单体立体结构调控，同时实现了高速书写和高分辨率加工。

Ma, Zhiyuan · Tengxiao, Li · Xiaoqiang, Dai · Shen, Xiaoming · Xiaobing, Wang · Huan, Fu · Xia, Xianmeng · Qinyan, Zhu · 朱银波 · Yu, Zhilong · Cao, Chun · You, Shangting · 匡翠方

Advanced Functional Materials 2024

参数信息

特征尺寸

<200 nm

书写速度

100 mm s−1

技术优势

高速书写

双分子光敏剂-光酸产生剂对有效解决了阳离子光刻胶的光敏性瓶颈，实现了100 mm s⁻¹的书写速度。

高分辨率

通过调节单体的分子内和分子间立体结构限制了光酸扩散，从而获得<200 nm的精细特征。

低收缩率

3D结构表现出低收缩，有助于保形性和尺寸精度。

应用场景

• 双光子纳米制造：高速高分辨地制造复杂3D纳米结构，速度提升一个量级。
• 3D微纳增材制造：快速制造厘米级纳米器件，将双光子增材制造推向实用化。
• 光刻制造：提供阳离子光刻胶的高性能方案，克服传统光敏性瓶颈。
• 微流控芯片制造：直接写入微流道和微结构，无需掩模，缩短芯片制备周期。