CuCr50Ni₀.₅涂层

抗电弧侵蚀

通过Ni微合金化细化Cr相并形成(Cr,Ni)固溶体与Cr₇Ni₃析出相,实现高硬度与良好导电性的协同。

Yusen, Duan · Guo, Xiuhua · Feng, Jiang · 张朝民 · 宋克兴 · Zhihua, Wang · Li, Kai

Materials 2026

具体参数

显微硬度
{'zh': '174.2', 'en': '174.2'} HV₀.₅
电导率
{'zh': '29.8', 'en': '29.8'} % IACS

技术优势

抗电弧侵蚀增强

Cr相细化且均匀分散,促进电弧弧根动态移动,避免局部集中烧蚀,侵蚀形貌从深坑变为均匀浅蚀。

硬度提升明显

Ni固溶强化和Cr7Ni3纳米析出相共同作用,使显微硬度达到174.2 HV0.5,较铜基体提高149%。

保持良好导电性

尽管添加Ni,涂层仍保持29.8% IACS电导率,满足电接触应用对导电性能的要求。

应用场景