活性位密度提升 2.8 倍
通过等离子体调控孔结构,增加可及的FeN4位点密度和利用率,显著提升氧还原催化性能。
Li, Yanrong · Qiao, Liqing · Yin, Shuhu · Cheng, Xiaoyang · 王成 · 姜艳霞 · 孙世刚
Journal of Colloid and Interface Science 2023
在0.1 M HClO4中半波电位为0.835 V (vs. RHE)