LuAG:Ce荧光薄膜

激光照明降温95.6°C

通过提升结晶度与Ce3+含量,显著降低高功率激光激发下的工作温度,增强发光性能与热稳定性。

Huiying, Hu · Xue, Bingguo · Liu, Shaohong · Zhou, Limin · Cui, Hao · Liu, Manmen · 董海刚 · Li, Chen · 闻明 · Liu, Feng · 李松 · Zuo, Liang

Journal of Advanced Ceramics 2025

具体参数

工作温度降幅
{'zh': '95.6', 'en': '95.6'} °C
薄膜厚度
{'zh': '22.17', 'en': '22.17'} μm
薄膜结晶度
{'zh': '87.4', 'en': '87.4'} %

技术优势

激光激发下降温95.6°C

结晶度从75.5%提升至87.4%后,薄膜在18 W/mm²蓝光激光激发下工作温度降低95.6 °C,直接抑制热致发光衰减。

接近饱和阈值仍稳定

薄膜在高功率激光激发、接近饱和阈值的严苛条件下仍能显著降低工作温度,说明其可承受更高功率密度。

CO退火进一步降温

在CO气氛下退火引入更高Ce³⁺含量,可在提升结晶度的基础上进一步降低工作温度,增强薄膜的发光稳定性。

应用场景