oNBC 光敏氨基保护基

光照即脱保护

以邻硝基苄氧羰基（oNBC）为光敏保护基，可在温和条件下通过光照脱除，用于立体控制合成 2-氨基-2-脱氧-β-d-糖苷。

Jintao, Shang · Yi, Wang · 75744793 · Jibin, Zheng · 73332997 · Shuang, Yao · 杨友

European Journal of Organic Chemistry 2024

技术优势

金(I)催化糖基化完全 β 选择性

365 nm 光照下脱保护