氧化石墨烯光催化抛光液

碳化硅抛光 高效低损伤

将氧化石墨烯引入光催化辅助抛光，利用其润滑性和层状结构提升光催化效率与材料去除作用，实现碳化硅的高精度高效加工。

Yang, Zhang · 曹中臣 · Yiwei, Miao · 刘海涛 · Huang, Tian

Journal of Manufacturing Processes 2026

参数信息

表面粗糙度

1.138 nm

材料去除率

1.725 μm/h

粗糙度降低幅度

66 %

去除率提升幅度

52 %

技术优势

粗糙度降六成

相比传统磨料抛光，表面粗糙度Sa降低66%，得益于氧化石墨烯的光催化增强和层状结构带来的材料去除作用。

去除率提高五成

材料去除率比传统磨料抛光提高52%，使得抛光过程更高效。

最优粗糙度低至1.138 nm

在最优参数下，表面粗糙度Sa达到1.138 nm，满足超精密加工需求。

应用场景

• 超精密抛光：用氧化石墨烯光催化抛光液替代传统抛光液，获得纳米级表面。
• 先进陶瓷加工：将碳化硅等硬脆陶瓷加工到超光滑表面，减少后续修整工序。
• 航空航天部件加工：满足航空航天部件对碳化硅材料的高精度、低损伤表面要求。
• 精密机械制造：在精密机械制造中实现高精度高效抛光，无需复杂改造。