缺陷型UiO-66-NH₂富集介质

高选择性萃取痕量卤乙酸

一种调制诱导缺陷的多孔MOF介质,用于从茶饮料中选择性高效富集卤乙酸消毒副产物。

Xueyun, Wei · 张卓旻 · 李攻科

Talanta 2025

参数信息

检测限
5.0–15.0 ng/L
回收率
78.3%–124% %

技术优势

选择性高,干扰少

在存在结构类似物作为干扰化合物的情况下,D-UiO对五种目标DBPs仍表现出良好的萃取选择性。

痕量可测,灵敏度高

基于D-UiO的M-SPE方法结合UPLC-MS/MS,对茶饮料中痕量溴代和碘代乙酸DBPs的检测限达到5.0–15.0 ng/L。

批量处理,省时高效

通过十通注射泵与膜固相萃取技术结合,该方法能够批量处理样品,显著缩短前处理时间。

应用场景