致密纳米颗粒阵列微反应器

合成容量高三倍

三相接触线限制使纳米颗粒在芯片上致密组装，反应面积大幅提升，纯度高、产量高。

Xiao, Su · 李小平 · Yi, Zhang · Qing, Guo · Xingguo, Zhang · Haixia, Yu · 栗大超

Chemical Engineering Science 2023

参数信息

退接触角大于

90 °

技术优势

合成容量提升三个数量级

与平面或多孔基底相比，有效反应面积显著增加